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Deep levels in iron doped n- and p-type 4H-SiC

机译:铁掺杂的n型和p型4H-SiC中的深能级

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摘要

Deep levels were detected in Fe-doped n- and p-type 4H-SiC using deep level transient spectroscopy (DLTS). One defect level (EC 0.39 eV) was detected in n-type material. DLTS spectra of p-type 4H-SiC show two dominant peaks (EV + 0.98 eV and EV + 1.46 eV). Secondary ion mass spectrometry measurements confirm the presence of Fe in both n- and p-type 4H-SiC epitaxial layers. The majority capture process for all the three Fe-related peaks is multi-phonon assisted. Similar defect behavior in Si indicates that the observed DLTS peaks are likely related to Fe and Fe-B pairs.
机译:使用深能级瞬态光谱法(DLTS)在掺铁的n型和p型4H-SiC中检测到了深能级。在n型材料中检测到一种缺陷水平(EC 0.39 eV)。 p型4H-SiC的DLTS光谱显示两个主峰(EV + 0.98 eV和EV + 1.46 eV)。二次离子质谱法测量证实了在n型和p型4H-SiC外延层中均存在Fe。所有三个与铁有关的峰的多数捕获过程是多声子辅助的。 Si中类似的缺陷行为表明,观察到的DLTS峰可能与Fe和Fe-B对有关。

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